In der Halbleitertechnik ist die Photolithographie der wesentliche Prozessschritt für die Erzielung gewünschter Technologiegrößen. Für die photolithographischen Prozesse kommen als Hauptkomponenten Ausrichtgeräte, Stepper oder Scanner zum Einsatz. Diese lithographischen Systeme müssen täglich die perfekte Vorlage für die elektronischen Geräte erstellen, die auf die Substrate übertragen werden sollen.
Die Qualifizierung der Funktionen der photolithographischen Geräte ist eine der Hauptaufgaben des optischen IVS-Messsystems.
Für Großtechnologien kommt das IVS-System zur Messung der kritischen Abmessungen (CD) zum Einsatz, wobei die Ionendosis je nach optimaler Dosis und Belichtung des Stepper-Geräts variieren kann.
Bei hochentwickelten Technologielösungen wird die Overlay-Messung an mehreren Stellen der Substrate vorgenommen, um die mögliche Abweichung des Stepper-Geräts bei einer Phasenverschiebung oder Drehung, z. B. nach Fertigstellung eines Arbeitsvorgangs am lithographischen Gerät, zu qualifizieren.
Die Qualifizierung der Funktionen der photolithographischen Geräte ist eine der Hauptaufgaben des optischen IVS-Messsystems.
Für Großtechnologien kommt das IVS-System zur Messung der kritischen Abmessungen (CD) zum Einsatz, wobei die Ionendosis je nach optimaler Dosis und Belichtung des Stepper-Geräts variieren kann.
Bei hochentwickelten Technologielösungen wird die Overlay-Messung an mehreren Stellen der Substrate vorgenommen, um die mögliche Abweichung des Stepper-Geräts bei einer Phasenverschiebung oder Drehung, z. B. nach Fertigstellung eines Arbeitsvorgangs am lithographischen Gerät, zu qualifizieren.
