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ECV Pro +

Fortschrittliche elektrochemische Kapazitäts-Spannungs-Messung

 

Der patentierte ECV Pro+ ist das Ergebnis eines vollständigen Neuentwurfs, der das ECV-Profiling völlig neu definiert. Wir haben 25 Jahre Erfahrung im ECV-Profiling mit 25 Jahren Fortschritt in der Instrumentensteuerungstechnologie kombiniert, um den präzisesten, reproduzierbarsten und höchst automatisierten elektrochemischen CV-Profiler aller Zeiten zu entwickeln. Der ECV Pro+ wurde von Grund auf so konzipiert, dass alle benutzerabhängigen Variationen in den Daten eliminiert werden. Der Bediener muss lediglich den Wafer auf die Bühne legen. Nach der anfänglichen Einrichtung übernimmt der ECV Pro+ den Rest.

 

Applications

 

Bei einem unter Spannung stehenden Film können Defekte wie Versetzungen, Hohlräume und Risse auftreten. Das FLX-Stressmesssystem hilft bei der Fehlerbehebung in den folgenden Anwendungen:
• Spannungsbedingte Hohlräume im Aluminium
• Passivierungsrisse (Nitrid, Oxid)
• Spannungsinduzierte Versetzungen im Silizium
• Verschlechterung der Ausbeute bei elektrischen Tests
• Risse im Wolfram-Silicid
• Spannungsanstieg in Oxiden während des Temperaturzyklus
• Verschlechterung beim Konstantstrom-Stresstest (CCST)
• Anpassung der Metallisierungsexpansion auf GaAs
• Siliziumrisse aufgrund hoher Filmbelastung

Toho HL9900

Hall-Effekt-Messung

 

Das HL9900 ist ein schlüsselfertiges, leistungsstarkes Hall-Effekt-System zur Messung von Widerstand, Trägerkonzentration und Mobilität in Halbleitern. Modular in der Konzeption und mit einfachen Upgrade-Möglichkeiten eignet sich das System für eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Silizium und Verbindungshalbleitern. Das HL9900 verfügt über die Fähigkeit zur Messung sowohl von niedrigem als auch von hohem Widerstand. Mit einer intuitiven Benutzeroberfläche ist keine Programmiererfahrung erforderlich, um das HL9900 einzurichten oder zu verwenden.

 

Applications

 

Durch die Hall-Effekt-Messung können die folgenden Eigenschaften bestimmt werden:
• Widerstandsfähigkeit/Leitfähigkeit • Mobilität • Volumen-/Flächen-Trägerkonzentration • Dotierungstyp • Hall-Koeffizient • Magnetoresistenz • Vertikales/Horizontales Widerstandsverhältnis

 

Features

 

Die Hall-Effekt-Messung ermöglicht folgende Eigenschaften:
• Van der Pauw-, Hall-Bar- und Brückenmessungen nach ASTM F-76 Standard • Einfaches Probensystem für eine bequeme und schnelle Probenbearbeitung, Kompaktes Tischdesign •Breiter Strombereich, einschließlich automatischer Stromregelung, um die Erwärmung der Probe zu minimieren • Benutzerdefinierte Begrenzung des elektrischen Feldes, um Auswirkungen der Ionisation bei niedrigen Temperaturen zu vermeiden • Optionaler Hochimpedanz-Pufferverstärker/Stromquelle, um die Messungen der Flächenresistivität bis zu 10¹¹ ?/Quadrat zu erweitern