Automatisierte optische IVS-Messsysteme
Offizieller Vertreter in Europa für IVS-Produkte von INSPECTROLOGY

Produkte


Einfache Handhabung der optischen IVS-Systeme für kritische Abmessungen (CD) und Overlay-Messungen.

EUMETRYS (kurz für: EUropeanMETRologysYStem) ist ein Dienstleistungsunternehmen, dass über jahrelange Erfahrungen in der optischen Messtechnik verfügt. Wir haben uns auf den Support von automatischen, optischen Messsystemen für die Halbleiter-, Verbindungshalbleiter (GaAs, GaN, SiC, InP)-, mikroelektromechanischen Systeme (MEMS)-, und Leuchtdioden (LED)-Industrie in Europa spezialisiert.
 
Zu unseren Kernkompetenzen zählen der Vertrieb von kompletten optischen Messsystemen und deren Ersatzteile. Zudem bieten wir Wartungs- und Applikationsservice für Messsysteme an, sowie spezifische Kundenschulungen für die Prozesse und Wartungen der Systeme in der Produktion.

EUMETRYS ist der offizielle OEM-Vertreter für den Vertrieb und Support der IVS-Produktlinie von INSPECTROLOGY LLC in Europa.
 


Neues IVS 220-Modell von INSPECTROLOGY

EUMETRYS bietet nun das neue, automatisierte optische IVS 220-Messsystem mit einem hohen Durchsatz an, dass sich an der Spitzenposition der Messtechnik etabliert.

Das neue IVS 220-Modell bietet die besten Gesamtbetriebskosten für die fortschrittlichsten, technologischen Messmöglichkeiten für Produktionsbetriebe bis hin zu 200 mm Wafergröße. Mit einer gesteigerten Durchsatzrate (TPUT) von 165 Wafern pro Stunde, einer Messgenauigkeit von unter 1 nm bei einer Standardabweichung von 3 Sigma und 1 nm TIS, ist das IVS 220-System so konzipiert, dass es den modernsten Messtechnikanforderungen von heute gerecht wird.
 
Dieses Image-Base-Overlay-System (IBO) kann kritische Abmessungen (CD = Critical Dimension), Overlay, Nonien, Durchmesser, Höhen und sogar Böschungen messen. Es ist sowohl für fortschrittliche Technologien bis zu 65 nm für die Halbleiterfertigung als auch für die flexiblen Anforderungen der Verbindungshalbleiterfertigung mit verschiedenen Substrattypen, wie z.B. SiC, GaN und GaAs, ausgelegt.
 
Das neue IVS 220-Modell nutzt die Grundlagen des technischen Könnens des IVS 200-Systems, um die vielfältigen Kundenanforderungen eines bewährten und zuverlässigen Systems zu gewähr-leisten. Darüber hinaus ist mit neuen hochtechnologischen Hardwareteilen, wie der ETEL-Stufe, aufgerüstet worden, um das System an seine Grenzen hinsichtlich Geschwindigkeit und Genauigkeit zu bringen.

Mit dem IVS 220-Modell unterstützen INSPECTROLOGY und EUMETRYS die Industrien und ihre immer strenger werdenden Prozessanforderungen.

Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen
 
 


 





 
 
EUMETRYS vertreibt ein flexibles handhabbares, automatisches optisches Messsystem für die Halbleiter-, MEMS-, LED-, Energie- und Photonik-Industrie.

Das optische Messgerät IVS 220 ist speziell für die Messung von fotolithografischen Überdeckungs-genauigkeit von Strukturen (Overlay-Messungen) und für kritische Abmessungen bzw. für die Messung der kritischen Linienbreiten (Critical Dimension oder Line Width) konzipiert.
 
Das Messgerät ist so konzipiert, dass es für verschiedene Substratgrößen und -typen von 3- bis 8 Zoll ohne jegliche Hardwareveränderung verwendet werden kann. Zudem kann es sowohl transparente Substrate als auch gebondete Siliziumwafer messen.
 
Die Mitarbeiter von EUMETRYS verfügen über langjährige Erfahrung in der Halbleiterbranche. Wir liefern unseren Kunden kostengünstige Lösungen in Bezug auf MTBF und Betriebszeiten. Wir arbeiten mit vielen Unternehmen zusammen, die über ein „Einzelpfad“-Messsystem verfügen. Um eine Kundenzufriedenheit zu gewährleisten, reagieren wir schnell auf deren Kontaktierungen, um Reparaturzeiten zu minimieren.

EUMETRYS vertritt INSPECTROLOGY mit der IVS-Produktlinie in Europa. Wir vertreiben das neue IVS 220-Modell mit den besten Betriebskosten für den Markt von 200 mm und dünneren Substraten.
 

Wiederaufbereitete IVS 200-Modelle und Gerätenachrüstung auf IVS 200-System

Wir verkaufen gebrauchte Geräte preisgünstig ohne Einschränkungen: Eine Garantie wird übernommen und die Spezifikationen werden garantiert

Je nach Kundenbedarf und Kostengründen schlagen wir gebrauchte System ohne Vorbehalt vor. Eine Garantie und die Spezifikationen werden mit den besten Betriebskosten (Cost of Ownership (COO)) des Marktes für das IVS 200-System garantiert.
 
Ebenso wie INSPECTROLOGY sind wir der Auffassung, dass alle Kundenanforderungen auch mit einer kostengünstigen Lösung abgedeckt werden können. Daher haben wir uns entschieden, gebrauchte Geräte anzubieten, die von unserer Serviceabteilung umfassend wiederaufbereitet wurden.

An unserem Fertigungsstandort wird das Fachwissen unserer Mitarbeiter eingesetzt, um die Vorgängermodelle der letzten Jahre wiederaufzubereiten und diese auf die neueste und beste Hardware- und Softwarelösung des IVS 200-Systems aufzurüsten.

Die wiederaufbereiteten Systeme werden nach den garantierten Originalspezifikationen und deren Zulassung mit einer Schulung und einer 12-monatigen Garantie angeboten. Sie werden durch unsere Dienstleistungen und technischen Support in ihrem Betrieb in vollem Umfang unterstützt.

Das IVS 200-Modell überzeugt durch seine fortschrittliche Leistung bei niedrigsten Betriebskosten, unterstützt durch eine Semi-Standard-Benutzeroberfläche (WIN 10 OS GUI). Zudem bietet dieses Modell mehr als nur klassische automatisierte CD- und Overlay-Messungen. Es bietet eine große Anzahl an Messalgorithmen, die die Messung verschiedener Strukturen für Halbleiter, Verbindungshalbleiter, MEMS und LEDs ermöglicht. Es ist in der Telekommunikations-, Energie- und Photonik-Industrie weit verbreitet.
 
Es ermöglicht dem Benutzer beispielweise die Messung von Overlay, CD und VIAs innerhalb desselben Rezeptes. Das System ermöglicht auch die Verwendung eines neuen CD-Algorithmus mit verschiedenen Ausrichtungen der Linien.

Dieses IVS 200-Modell ermöglicht eine große Flexibilität bei der Messung, so dass es sowohl für Halbleiter als auch Verbindungshalbleiter eingesetzt werden kann, wenn Wirtschaftlichkeit der ausschlaggebende Faktor für ihre Produktion ist.

Sie möchten eine Informationsbroschüre (PDF-Datei) zu dem wiederaufbereiteten System? Dann senden Sie uns bitte eine Anfrage.
 
 





Flexible Handhabung der IVS-Systeme: von 75 bis 200 mm ohne Modifikation

 
 
Verfügbares Upgrade auf IVS 200-System

Alle IVS-Vorgängermodelle können auf die aktuelle IVS 200-Software nach dem neuen SEMI-Standard WIN10 GUI und mit verbesserten Leistungsmöglichkeiten aufgerüstet werden.
 
Somit profitieren alle Vorgängermodelle der 1XX-Reihe von einer gesteigerten Genauigkeit von 20%, einer gesteigerten Durchsatzrate (TPUT) von 30% und zeichnen sich durch ihre volle Funktionsfähigkeit aus.

Wir bieten ihnen an, ein Vorgängermodell der 1XX-Reihe sofort gegen ein gebrauchtes, wiederaufbereitetes IVS 200-System einzutauschen. Die Garantie gilt nur für die ausgetauschten Ersatzteile und die neue Software.

Für Unterlagen zu nachgerüsteten Produkten (PDF-Datei), senden sie uns bitte eine Anfrage
 

Leistungen der IVS-Produktreihe

Das optische IVS-Messsystem ist eine hochentwickelte automatische Plattform, die 75-200 mm dünne Wafer (ohne vorgenommene Hardwaremodifikationen) handhaben kann und dabei die folgenden Messleistungen bietet

Für transparente Substrate bieten wir ein spezielles IVS-System an, bei dem ein transparentes Ausrichtsystem (Aligner-System) verwendet wird, das eine innovative Abbildungstechnik nutzt. Dies ermöglicht eine Messung von transparenten Wafern und hochentwickelten Substraten aus Glas, Quarz, GaN, GaAs, LiN und SiC-Substraten.

In-Chip- oder Überwachung von CD- und Overlay-Messungen mit demselben Messrezept - für die standardmäßige Produktionsüberwachung.
 
Das IVS-Messgerät ist in der Lage im Rahmen der Produktionsüberwachung, kritische Abmessungen (CD), Overlay oder andere Strukturen innerhalb des Chips ihres Produktes zu lokalisieren und zu messen.
 

In-Chip CD-Messung
 

In-Chip Overlay-Messung

Aufgrund der großen Objektivauswahl von 150x bis 2,5x, ermöglicht das IVS-System umfangreiche sub-µm-CD oder Pitchmessungen für fortgeschrittene Technologiebereiche.

Ausgerichtet auf die verschiedenen Kundenbedürfnisse, kann der Benutzer mithilfe der IVS 200-Systemsoftware CD-Messungen im Standardbereich, im sub-µm-Bereich bis zur Größe des Sichtfeldes messen.
 

CD- oder Pitchmessungen im sub-µm-Bereich
 

Umfangreiche CD- oder Pitchmessung

Neue SiC/InP-Substrate
 
Das IVS 200-System ist in der Lage mithilfe der Transparenz-Funktion neue Substratstrukturen zu messen. Dadurch kann es in der Energiewirtschaft, für Wellenleiteranwendungen, in der Photonikindustrie und für Oberflächenemitter (VCSEL) eingesetzt werden.
 
Das IVS 200-System wird derzeit überwiegend in der Serienproduktion von Verbindungshalbleitern-Herstellern eingesetzt.
 

Photonische CD-Messung von Kanten
 

Laseröffnung für Oberflächenemitter (VCSEL)

Algorithmus für 3D-Strukturmessungen
 
Das IVS 200-System wird häufig für MEMS-, kritische Abmessungen (CD)-, CD-Höhen- und VIA-Messungen (dank der Kreisstrukturanpassung-Messfunktion) angewendet.
 
Die Vielseitigkeit der IVS 200-Software ermöglicht es dem Kunden, In-Chip- oder Strukturlinien-Messungen von komplexen Schichten für unterschiedliche messtechnische Kontrollen durchzuführen.
 

Komplexe VIA-Messung
 

MEMS-Druckkopfpad

Strukturierte LED-, Oberflächenemitter- (VCSEL) / Laser-, CD- und VIA-Messungen.
 
Im Laufe der Technologieentwicklung haben sich auch die Kundenanforderungen an die Messtechnik gewandelt. Dementsprechend haben wir das IVS 200-System auf diese Ansprüche unserer Kunden angepasst. Das IVS 200-System verfügt über einen neuen VIA-Algorithmus und anderen neuen Funktionen, die es ermöglichen, dass z.B. Öffnungen von Oberflächenemittern (VCSEL) gemessen werden können.
 

In-Chip VIA-Messung
 

Messung der Öffnung des Oberflächenemitters (VCSEL)

Erwiesene Overlay-Messfähigkeit bei Halbleiterprozessen bis zu 110 nm
 
Das IVS 200-System ist eine kostengünstige Lösung für Overlay-Messungen bei komplexen Schichten und Strukturen bis 110 nm.
 

TiN-Overlay-Messung
 

Overlay-Messung einer komplexen Schicht nach SEMI-Standard

Spezifische Messung eines sehr großen Overlay-Versatzes am LETI - Nanoimprint-Lithographie (NIL)

 
 
 

CD- oder Pitchmessung im sub-µm-Bereich
 
Messung von seltenen Overlay-Strukturen und Nonien
 
In der Produktion von neuen Verbindungshalbleitern kommt bei den Overlay-Messungen nicht immer die SEMI-Standardfunktion zum Einsatz.
Das IVS 200-System ermöglicht es, auch nicht standardisierte Overlay-Messungen durchzuführen, u.a. Kreuz-in-Kreuz-Strukturen, Nonien, etc.
Für jede Kundenanforderung arbeitet unser Anwendungstechnikerteam daran, eine Lösung für den Kunden zu finden.
 
 

Seltene Kreuz-in-Kreuz-Struktur
 

Nonien-Messung